Etude des Plasmas H2/CH4 à Haute Densité de Puissance pour la Croissance de Diamant par Déposition Chimique en Phase Gazeuse (CVD)
Nadira Derkaoui  1  , Cathy Rond  1, *, @  , Ovidiu Brinza  1  , Armelle Michau  1  , Khaled Hassouni  1  , Alix Gicquel  1  
1 : LSPM
CNRS : UPR3407
* : Auteur correspondant
Type : : Affiche
Thématiques : Plasmas Froids
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