Etude des Plasmas H2/CH4 à Haute Densité de Puissance pour la Croissance de Diamant par Déposition Chimique en Phase Gazeuse (CVD)
1 : LSPM
* : Auteur correspondant
CNRS : UPR3407
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Résumés > Résumés par auteur > Hassouni KhaledEtude des Plasmas H2/CH4 à Haute Densité de Puissance pour la Croissance de Diamant par Déposition Chimique en Phase Gazeuse (CVD)
1 : LSPM
* : Auteur correspondant
CNRS : UPR3407
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